龙图光罩：产品制程水平或拓展至90nm、65nm 原材料价格暂未发生重大波动|直击业绩会

《科创板日报》4月11日讯（记者 陈俊清）今日（4月11日），龙图光罩举行2024年度业绩会。

2024年，龙图光罩实现营收2.47亿元，同比增长12.92%；实现归母净利润9183.29万元，同比增长9.84%。公司营业收入增速放缓，主要原因为现有产能已接近瓶颈，珠海募投项目尚未投产释放产能。

关于当前最新产能进展，龙图光罩董事长柯汉奇在业绩会上表示，深圳工厂目前产能利用率稳定在较高水平。由于掩模版产品系高度定制化，需根据客户特定需求生产，因此很难达到理想的满产状态，但现有的产能利用率能够有效保障客户订单的按时交付，同时兼顾产品质量与生产效率的平衡。

珠海募投项目方面，柯汉奇表示，目前该公司珠海工厂已完成第三代掩模版PSM产品的工艺调试和样品试制，并已送样至客户进行验证，待验证通过后即可开始小批量供货。珠海工厂的年达产产能规划为1.8万片，预计达产产值为5.4 亿元。

产品制程水平将拓展至90nm、65nm

根据SEMI数据，中国芯片制造商预计将保持两位数的产能增长，每月8寸等效晶圆总量在2024年增长15%至885万片后，2025年将增长14%至1010万片。

对此，柯汉奇在业绩会上表示，作为半导体产业上游的核心材料，半导体掩模版的战略地位也将随之稳步提升。随着半导体产业的蓬勃发展，对掩模版的需求将不断攀升。

据了解，在特色工艺制程领域，对于130nm及以上制程节点的半导体掩模版，境内厂商工艺技术水平已达到国际一线竞争对手同等水平，产品关键参数无明显差异，性能水平基本相当，正逐步占据该制程节点下境外厂商的市场份额。

业绩会上，柯汉奇表示，130nm至28nm制程节点的成熟制程半导体掩模版产品是包括龙图光罩在内的当前境内第三方厂商技术攻关和产品研发的主要方向，目前与国际一线厂商各个环节上尚存在一定差距，但短期内技术追赶存在较大的可能。

对于28nm及以下的先进制程节点的半导体掩模版，柯汉奇在回答《科创板日报》记者提问时表示，“由于境外掩模版厂商具有资本投入的先发优势和产业链集群优势，同时中国大陆半导体行业受贸易制裁、出口管制等因素影响，我国境内第三方掩模版厂商暂时无法涉及28nm及以下制程节点的先进制程掩模制造，仅有极少数头部晶圆厂具备相应制版技术。”

目前，龙图光罩已实现130nm工艺节点半导体掩模版的量产，更高制程节点的第三代掩模版PSM产品已研发试制成功并送往客户验证。

“随着珠海募投项目的推进，公司产品制程水平将拓展至90nm、65nm，实现制程升级和产品迭代。下游应用领域也将向驱动芯片、MCU、信号链、CIS、Flash、eNVM等扩展，充分满足下游大型晶圆厂的配套需求。”柯汉奇在业绩会上如是称。

将加强与日韩供应商长期协议谈判 确保原材料供应抗风险能力

据介绍，龙图光罩产品的主要原材料为石英基板、苏打基板和光学膜等。对于原材料的进口依赖性，柯汉奇表示，石英基板和光学膜技术难度较大，供应商主要集中于日本等地，公司的原材料存在一定的进口依赖。报告期内，该公司向前五大供应商采购原材料的金额占原材料总采购金额占比为73.17%。

“公司主要生产设备，如光刻机主要向境外供应商采购。目前公司已存在部分国产替代，未来在国内供应商产品稳定可靠的基础下，公司会进一步推动国产替代的策略。”

对于进一步提升原材料国产化率，柯汉奇在业绩会上表示，“公司实现国产替代化的时间周期受多种复杂因素交互影响，难以明确预估。国内产业链内部的协同配合对于国产替代化进程影响重大。”

“在产业链上游，原材料供应商的发展水平至关重要。若国内原材料供应商能加快技术创新，提高产品质量和供应稳定性，比如在平坦度、稳定性等关键指标上达到公司生产要求，将为国产替代化奠定基础。公司与上下游企业之间的沟通和磨合也不可或缺，各方需要共同解决诸如产品标准统一、工艺需求匹配等问题，但这些环节都需要一定时间来发展和完善。”柯汉奇如是说。

对于美关税政策的影响，柯汉奇表示，本次美国“对等关税”政策对公司营收影响较小。在原材料方面，该公司原材料主要来自于日韩，目前暂未收到原材料价格发生重大波动的情形，但若美国通过技术管制进一步限制日韩供应商使用美国技术（如EDA工具、专利授权等），可能间接推高原材料价格或影响供应稳定性。公司会进一步加强与日韩供应商的长期协议谈判，确保原材料供应的抗风险能力。

龙图光罩2024年年报显示，该公司主要营收来源于境内，2024年境内收入占比为98.87%，境外收入较低，且境外客户主要来源于马来西亚等地区。

（科创板日报记者 陈俊清）